简介
(1)项目研制了一种筒形结构的溅射阴极,利用新型高功率放电原理及离子控制技术形成薄膜制备过程中的可控生长和高速生长工艺。(2)项目首次发现亚稳的锐钛矿相NTO纳米晶种生长的临界尺寸条件,利用界面能调控突破了无序玻璃基体材料上实现亚稳定锐钛矿相薄膜的生长,通过粒子入射角度控制实现了高导电性的(004)择优取向,与企业协作实现了40cm*30cm的大面积制备。(3)鉴于NTO高折射率引起的反射问题,引入合理的减反技术,将其透过率由76%提高到87%,提出了基于CdS为n层的太阳能电池或OLED应用可行性,并拓展了其在光触媒、自清洁等领域的应用探索。